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장비 및 시설 기본정보
가공후열처리방법
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 썬시스템 |
| 모델명 | EC1A |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-09-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 건국대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 온도 변화에 대한 재료 특성 변화 관찰구성및성능 Heat Chamber 온도 제어기 챔버는 -70 ℃부터 300 ℃까지 0.1 ℃의 오차로 정확하게 냉각 또는 가열할 수 있으며 내부에 설치되어 있는 팬으로 강제 대류를 생성하므로 챔버 내부 공간의 온도 차이가 매우 작다활용분야 폴리머 및 생체 재료 물성 변화 관찰 이 환경챔버는 마이크로 칩 도는 작은 구조물을 가열하는데 최적화되어 설계되었다. 챔버는 -70 ℃부터 300 ℃까지 0.1 ℃의 오차로 정확하게 냉각 또는 가열할 수 있으며 내부에 설치되어 있는 팬으로 강제 대류를 생성하므로 챔버 내부 공간의 온도 차이가 매우 작다. 또한 챔버의 옆에는 내부를 볼 수 있는 창이 있으며 이는 GOM 사의 광학식 변위측정 장비로 챔버에서 가열하는 시편의 열변형을 측정하도록 만들어 놓은 것이다. 이 장비는 랩뷰프로그램로 모든 과정을 제어함으로써 다른 장비와의 연동이 간이하다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110222165939.JPG |
| 장비위치주소 | 서울 광진구 화양동 건국대학교 산합협동관 항공우주공학과 산합협동관 8층 802 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-10-076204 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014112 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |