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장비 및 시설 기본정보
알파스텝 IQ
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Kla-tencor |
| 모델명 | Alpha-Step IQ |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-06-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 국가핵융합연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | F202 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 1. Vertical Resolution : ≤ 0.1 A : 단차 (두께) 측정의 기본단위로 얇은 막을 측정할 경우 0.1 Angstroms 단위로 하기 때문에 보다 정밀한 측정을 할 수 있습니다. 측정을 나누는 최소 단위는 작으면 작을수록 보다 월등함. 2. stage Access Area : 150 x 80 mm : 예를 들어 직경이 150 mm 인 wafer (6 inch ) 를 stage 에 올려놓고 사용한다고 하면 AS IQ는 X-Y stage 만 이동시켜 전체의 Area 를 측정 할 수 있으나 ( 80mm 인 Y mm 측은 90 도 회전후 ), 100 x 100mm 의 stage 이동거리로는 sample을 손으로 다시 옮긴 후 재차 X-Y stage 를 조정하여야 합니다. 향후 큰 sample을 측정하여야 할 경우는 충분히 발생 할 수 있으리라 사료 됩니다. 3. CCTV Camera 배율 : 88~237배 의 조절로 크고 작은 Sample 의 위치를 찾는데 용이함. 4. Sample Rate : >1000 Hz : 초당 data 를 받아들이는 양을 말하며 하나하나의 data 를 연결하여 Profile 이 형성됩니다. 물론 형성된 Profiler를 이용하여 단차, 거칠기, 각도, 등 원하는 값을 갖습니다. Scan speed 와 밀접한 관계를 가지며 거칠기 및 scan 거리가 길며 보다 정확한 값을 갖기 위해서는 초당 검출 양이 많아야 됨은 당연한 일입니다. 5. Scanning Method : Bi-direction ( 양 방향 ) : 어떤 구조물의 형질에 따라 ( 예: MEMS ), 오른쪽에서 왼쪽으로, 왼쪽에서 오른쪽으로 측정을 해야 할 필요가 있습니다. ( 또한, 측정은 낮은 곳에서 높은 곳으로 측정하는 편이 용이함 ). 물론 90도 회전하여 측정하는 방식이 있으나 회전 후 정확한 위치를 찾는데 시간이 걸림. 6. 장비 문제시 자체 점검 Program 이 있음 ( System Check -Self Diagnostics Mode) 7. 장비운용 상태를 일자 별 시간 별 Log In |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160921142158_20150824000000193565 NFEC-2015-08-204455.jpg |
| 장비위치주소 | 국가핵융합연구소 플라즈마기술연구센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-08-204455 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0058234 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |