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장비 및 시설 기본정보
표면나노구조 플라즈마처리장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 지니아텍 |
| 모델명 | GVS-PST02 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-08-24 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C409 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | - 본 시스템은 금속 및 무기물, 유기물 표면의 플라즈마 에칭을 통한 표면 나노구조물을 형성하기 위한 설비이다. - 장비는 메인 프로세스 챔버(process chamber)와 진공배기부 및 가스공급부, 제어부 (Control panel)로 이루어진다. - 6인치 원형의 기판을 플라즈마 에칭을 통해 균일하게 식각할 수 있는 기능을 구현해야 하며, 에칭 균일도는 5% 이내로 한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160822172204_20150827000000193688 NFEC-2015-08-204566.jpg |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-08-204566 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0058273 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |