| 보유기관명 |
울산과학기술원 |
| 보유기관코드 |
|
| 활용범위 |
|
| 활용상태 |
|
| 표준코드 |
C510 |
| 표준분류명 |
분석 |
| 시설장비 설명 |
- 반응성 가스(SF6 BCl3 Cl2) 및 무선(13.56 MHz) 주파수 에너지를 공급하여 Ar및 O2 플라즈마를 발생시켜 마스크와 식각 재료를 고감도로 구별하여 건식방식으로 Metal electrode 및 구조등의 패턴을 정교하게 형성하는 반응성 이온 에칭기(RIE) 이다. etching uniformity를 위하여 substrate의 chuck에는 Cooling system이 적용 되어 있다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120927125709.jpg |
| 장비위치주소 |
울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2013-01-173982 |
| 예약방법 |
|
| 카타로그 URL |
|
| 메뉴얼 URL |
|
| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0039163 |
| 첨부파일 |
|
