- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
스퍼터
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Varian |
| 모델명 | 3280 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-04-09 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 반도체 제조 공정 중 금속박막을 형성시키는 장치로 전극 부위에 배치된 Target 재료에 Ar 이온이 진공중에서 충돌하여 Target이 되는 원자를 방출시킴으로써, 마주보고 있는 기판인 웨이퍼에 부착시키는 장비이다. DC Magnetron Sputter 방식은 Target 뒤에 Magnetron을 부착하여 Ar 이온이 Target에 충돌하는 빈도수를 높여주어 Sputtering Yield를 높여주는 방식이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150310151436442.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200112 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201906130276 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |