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장비 및 시설 기본정보

아르곤이온레이저

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 Coherent
모델명 LA70-1E
장비사양
취득일자 2005-07-12
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국표준과학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 A410
표준분류명
시설장비 설명 graphite particle, whose parameter was 0.1 to 0.5㎜, is used. The ignition point was measured with changed the energy using Ar laser. The experimental results indicate that there is a minimum laser power required for ignition a particle size and mixture gas. The measured critical minimum laser power for ignition decreases as the particle size become to be small. Pyrolytic dissociation of silane on substrates heated by a cw Ar ion laser beam has been used to deposit polycrystalline silicon thin films. The effects of parameters like laser beam irradiance (power density), dwell time, silane pressure on the silicon deposition are studied. To understand the film growth kinetics, an approximate relationship amongst the film thickness and some of the above parameters is deduced from general chemical thermodynamic considerations. The crystallographic texture of the grown silicon film is studied as a function of laser power. It is found that the texture (preferred orientation) changes from 〈110〉 at low power to 〈111〉 at higher power. Mixtures of silane and phosphine at different partial pressures are used to obtain phosphorous doped polysilicon films. These films show a thermally activated conductivity σ = σ0 exp ( -Ea/kT) with the activation energyEa depending on the phosphine partial pressure.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201106/20110629101522.jpg
장비위치주소 한국표준과학연구원 역학동
NFEC 등록번호 NFEC-2007-07-003867
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0050576
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)