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장비 및 시설 기본정보
전자빔 노광 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Nano Beam |
| 모델명 | nbl |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-07-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 인하대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 100keV의 가속전압을 가지는 전자빔 리소그래피 장치이다. 최소선폭 10nm 이하의 선을 그릴 수 있으며 새로운 전자광학컬럼 디자인을 채용하여 고전류 (>2nA)이상에서도 빔 spot의 크기가 매우 작아 (~3nm) 55MHz 의 속력으로 고속으로 그림을 그릴 수 있다. 최대 그리기 영역은 200x200mm2이며 10장의 웨이퍼 로딩이 가능하다. stich없이 그리는 영역은 500x500um2이며 최대 1x1mm2 까지 그릴 수 있다. beam drift는 설치된 장소의 온도변화가 +-0.1/시간이기 때문에 <40nm 이하를 기록하여 장시간 운영에도 안정적으로 동작한다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201108/.thumb/20110830181254.jpg |
| 장비위치주소 | 인천 남구 용현1,4동 인하대학교 253 인하대학교 6호관 1층 130B |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-08-147742 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0029801 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |