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장비 및 시설 기본정보
유기바이오표면처리용 ICP-CVD 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-07-24 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국표준과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)는 source gas의 분해를 플라즈마를 이용함으로써 비교적 낮은 온도에서 gas를 분해시켜 필요로 하는 박막을 증착하는 기술이다. 이번에 도입된 ICP(Inductively coupled plasma)-CVD는 외부 코일에 전류를 흘려주면 코일에 의해 형성된 수직 방향의 내부 유도 자기장에 의해 전기장이 발생하게 된다. 발생 된 전기장은 전자를 회전 운동시켜 전구체를 분해하여 원하는 박막을 증착하거나 표면 에칭에 이용하게 된다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201308/2013080115505416.jpg |
| 장비위치주소 | 한국표준과학연구원 신소재동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-08-181480 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0039407 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |