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TEOS 증착 PECVD 리퍼브 장비

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보유기관명	한국기계연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C523
표준분류명
시설장비 설명	AMAT P-5000은 TEOS (tetraethyl orthosilicate)와 O2를 플라즈마로 분해시켜 SiO2 박막을 형성하는 용도로 활용되고 있는 반도체 증착공정의 대표적인 장비임 (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). 본 장비는“반도체/디스플레이 분야 진공펌프 수명연장을 위한 저압 플라즈마 개발”과제에서 TEOS를 이용한 SiO2 박막증착공정에서 발생하는 “SiO2입자 부산물의 크기 제어”와 “미분해 TEOS 분해”를 통해 진공펌프 수명연장을 위해 개발된 저압 플라즈마 장비”의 성능을 평가하는데 활용되어 왔음. 향후, 본 장비는 개발된 저압 플라즈마 장비의 성능을 개선하고, 반도체 공정에서 배출되는 온실가스 저감에도 효과가 있는지 판별하는 용도로 활용할 것임
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201202/20120208133251.JPG
장비위치주소	한국기계연구원 연구3동 202호
NFEC 등록번호	NFEC-2012-02-154248
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053279
첨부파일

기업조회