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장비 및 시설 기본정보
마스크 얼라이너
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 마이다스시스템 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-07-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 반도체 공정의 핵심 과정인 포토리소그라피 분야에 사용되는 장비로서 Mask 와 시 료의 Align Key를 일치시킨 다음 자외선을 조사하여 Mask의 Pattern을 시료에 전 사시키는 역할을 수행한다. 최근에는 반도체 공정은 물론 MEMS bio-MEMS 광소 자 및 광전자 응용 분야에 널리 사용되고 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200712/20071210174752.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-049197 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0007663 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |