| 기업공감원스톱서비스

플라즈마 식각장치

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	동국대학교 산학협력단
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C510
표준분류명
시설장비 설명	본 장비는 O2 가스를 사용하여 플라즈마를 형성한 후 건식식각(Dry etching) 방법으로 감광막(Photo Resist) 또는 유기 박막 스컴제거 wafer 표면 cleaning에 사용되는 장비이다. 장시간 사용하여도 열이 많이 발생하지 않아 열에 의한 변형 가능성이 낮다.본 장비는 Main장비 장비를 컨트롤 할 수 있는 PC 및 Monitor 진공상태를 만들수 있는 Turbo Pump Rotary Pump O2 가스와 LN2 가스를 공급할 수 있는 가스 공급 시설 장비를 식혀 줄 수 있는 칠러 Air를 공급할 수 있는 Comp system으로 이루어져 있다. RF Power : 300W Vacuum Chamber PC & monitor Turbo Pump & Rotary Pump Chiller감광막 및 변질된 감광막 제거 유기 박막 제거 스컴 제거
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201102/.thumb/20110218122215.JPG
장비위치주소	서울 중구 필동3가 동국대학교 26-1 동국대학교 정보문화관P 지하2층 청정실
NFEC 등록번호	NFEC-2011-02-143568
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0028167
첨부파일

기업조회