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장비 및 시설 기본정보
회전식 코터기 & 평판 가열기 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 코디엠 |
| 모델명 | MS-103-G200 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-06-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | (재)철원플라즈마산업기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | Spin Coater는 Photolithography 공정 중 감광액(Photoresist), 또는 기타 용액을 기판에 도포한 후 회전력을 이용하여 고르게 박막을 형성시키기 위한 장비로서 패턴형성 공정에 사용될 수 있으며 디스플레이 연구 개발내의 실험설비 및 시제품 생산에 활용가능하며, HotPlate의 경우 평판 가열시스템으로 감광막, 또는 기타 박막이 형성된 기판의 열처리 설비이다.1.Spin Coater 1)Equipment Dimension : 1150(W) * 900(D) * 1650(H) 2)Substrate 크기 : 200 mm X 200 mm 기판 전용 3)Three Photoresist nozzle pump installed 4)Max Spin RPM : 3000RPM 5)Spin speed Control accuracy : 1,000 rpm ± 0.1% 6)RPM Acceleration (Max) : ≥10,000 rpm/s 2.Hot Plate 1)Equipment Size : 450(W) * 350(D) * 133(H) 2)내하중 : 약 15kg 3)연속 사용 가능 시간 : 48시간 (250 ℃ 기준) 4)Ceramic ball 150um spacer Installed 5)Temperature control range : 50 ℃~300 ℃, 0.1 ℃ programmable 6)Heater Type : Mica heater 7)Power : 220 V, 30 A, 1Φ, 60 Hz1. 산업용 반도체 제조기판으로 사용되는 Wafer PR 코팅, Baking공정 시 사용 2. OLED 조명소자 제작용 ITO Glass PR 및 기타 용액 코팅, Baking공정 시 사용 3. 기타 대면적 유리 및 가공소재의 PR 및 기타 용액 코팅, Baking공정 시 사용 4. 사용분야: 연구, 공정, 실습, 기타 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201212/.thumb/20121221164350.jpg |
| 장비위치주소 | 강원 철원군 서면 금강로 7194 . (재)철원플라즈마산업기술연구원 OLED조명연구동 1층 OLED공정실 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-01-173715 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0045222 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |