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장비 및 시설 기본정보
기판정렬/노광장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | EVG |
| 모델명 | EVG620 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2003-12-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한양대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 주요사양: Resolution : 0.8 ㎛ Range of wavelengths : 350 ~ 450 nm Exposure modes : - soft contact - hard contact - vacuum contact - hard + vacuum contact - proximity Alignment system : Dual-side lithography system Mask size : 5”ⅹ5” ~ 7” ⅹ7” Substrate ▷ Resolution : 0.8 ㎛ ▷ Range of wavelengths : 350 ~ 450nm ▷ Exposure modes : - soft contact - hard contact - vacuum contact - hard + vacuum contact - proximity ▷ Alignment system : Dual-side lithography system ▷ Mask size : 5”ⅹ5” ~ 7” ⅹ7” ▷ Substrate size : piece 4” 6” ▷ Substrate material : Si Glass 시험 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200807/.thumb/20080701134910.jpg |
| 장비위치주소 | 경기테크노파크 파일롯플랜트2동 마이크로바이오칩센터 크린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-003114 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0000607 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |