| 보유기관명 |
울산과학기술원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C510 |
| 표준분류명 |
분석 |
| 시설장비 설명 |
- 낮은 전압으로 플라즈마를 발생시켜 수 마이크로에서 나노 단위의 패턴이 있는 산화막 질화막 Poly-Silicon 등 다양한 유전체 박막을 CHF3 CF4의 가스를 O2플라즈마를 이용하여 건식 방법으로 비등방성 식각 하는 장치 이다. 이 때 etching 되는 박막의 Uniformity를 위하여 Back side cooling system이 연동 된다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161027102752_20120927000000154612 NFEC-2012-09-172238.jpg |
| 장비위치주소 |
울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2012-09-172238 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202006173223 |
| 첨부파일 |
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