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장비 및 시설 기본정보
전자빔 진공 증착장비 Ⅵ
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Evatec |
| 모델명 | BAK641 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-07-14 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 박막을 형성시키는 방법에는 크게 PVD법과 CVD법이 있는데 특히 PVD법은 증착 스퍼터링 이온플레이팅법으로 나누어지며 증착에는 저항열 아크방전전자빔레이저 등을 이용하는 방법들이 있다. 저항열을 이용하는 방법은 증발원과 박막재료가 직접 접촉하는 형식인데 증발원이 박막재료보다 고온이기 때문에 박막재료에의 불순물의 혼입 증발원재료와의 반응과 증발원재료의 융점에 의한 제약 등의 문제가 있다. 이러한 문제를 피하기 위하여 고안된 방법이 전자빔을 이용한 증착법이다. 전자빔을 이용한 진공증착(electron beam evaporation)(그림 1)은 매우 높은 전압을 가하여 필라멘트에서 방출된 열전자들을 증발원에 충돌시킴으로써 발생되는 열에 의해 증착하고자 하는 재료를 증발시켜 기판에 증착시키는 방법으로서 이는 고진공(10-5torr 이하)하에서 수냉도가니를 사용하므로 저항가열식의 단점인 오염이 비교적 적고 고에너지를 가진 열전자를 접속하기 때문에 고융점 재로도 증착을 할 수 있으며 증착속도 조절이 용이하여 최근에 널리 사용되고 있는 방법이다. 지금은 ITO 전용 증착장비로 사용중이다.- Main voltage 230V±10% - Frequency 50~60Hz - Max Connected load 350VA - Duty cycle 100% - Harmonic voltage <10%1. ITO 전용 증착 장비 2. LED 및 유기발광소자(OLED) 태양전지 등의 투명전극 제작을 위한 증착장비 활용가능 3. ITO tablet 구비 후 증착 웨이퍼를 장착 후 사용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124163921.JPG |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 시험생산1동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-137327 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0023491 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |