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장비 및 시설 기본정보
이빔리쏘그래피
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Raith |
| 모델명 | Raith 150-two |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-06-24 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | 특징 - 나노스케일의 패턴 및 구조물을 형성 하기위한 장비로서, 10nm급 디바이스 제작 20nm 정밀 Overlay를 구현 하기 위해 반드시 필요한 장비이며 또한 상기 나노 디바이스 및 마이크로 디바이스 제작시 필요한 마스크를 제작할 수 있는 장비임 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201308/2013082018333208.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 L6 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-10-072928 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201903127069 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |