얼라인먼트 시스템
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 마이다스시스템 |
모델명 | MDA-400M |
장비사양 | |
취득일자 | 2006-06-21 |
취득금액 |
보유기관명 | 멤스솔루션 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C501 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 초소형 정밀 기계(MEMS) 공정 진행 시 많이 사용되는 공정이 Backside 식각(etching) 공정이다. MEMS에는 반도체와 달리 미세 구조물을 공중에 띄우는 경우가 많은데 이런 release 작업을 위해서는 Backside로 Si wafer를 관통하는 작업을 하는 경우가 많다. 이를 위해서는 필수적으로 Backside 식각 전에 Backside 포토리소그래피(Photolithography)작업을 해야 하는데 이는 사진을 찍고 현상하고 인화하는 작업과 매우 유사하다. 감광성의 포토레지스트(Photoresist)를 도포(Coating)하고 노광(Exposure)한 후 포토레지스트의 패턴형성을 위한 현상작업을(Develop) 하게 된다. 본 장비는 사진기에 해당하는 노광작업을 하는 장비이다. Backside align을 위해서 IR 투과 방식을 사용한다. 4인치 웨이퍼 전용 장비이며 g-라인/i-라인 계열 포토레지스트와 Dry film등을 노광한다. |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110126152542.jpg |
장비위치주소 | 경기 용인시 처인구 백암면 고안리 633-2 고등기술연구원 B1층 (주)엠에스솔루션 Fab. |
NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-138533 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0024430 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |