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장비 및 시설 기본정보
보론 나이트라이드 성장 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 싸이엔텍 |
| 모델명 | TCVD50 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-08-26 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 기초과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | Furnace를 이용하여 원하는 기판의 온도를 박막성장을 위한 온도로 가열하고 quartz tube 내에 진공을 형성하여 성장하고자 하는1~2개의 source를 넣고 샘플 furnace와 별도의 furnace를 이용하여 source의 공급을 정밀하게 제어하여 원하는 기판위에서 Boron nitride, Moly sulfide 등의 박막을 성장할 수 있는 장비이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150325184553373.jpg |
| 장비위치주소 | 101동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200535 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054122 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |