- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
실리콘 건식식각 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Sts |
| 모델명 | VPX-Pegasus |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-07-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | Inductive Plasma Source(ICP)를 이용한 Si 식각 장치로서 기존 Si 장치가 1um 미만의 Depth를 식각 할 수 있는데 반하여 본 장치는 Bosch Process라는 특화된 기술을 이용하여 Si Depth 1um ~ 1mm까지를 Dry 방식으로 식각 할 수 있는 장치로서 8" Wafer만 진행이 가능함. |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201902/20190211135117985.png |
| 장비위치주소 | 나노종합기술원 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2019-01-253335 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201901249589 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |