| 시설장비 설명 |
1. 극초단 펄스 레이저에서 생성된 펨토초 펄스를 가공물 표면에 집광 및 조사하여 미세한 레이어를 적절하게 용융 및 증발시켜 원하는 형상의 패턴 및 깊이로 가공하게 되는 원리임. 현재 대중적으로 사용되는 나노초 파이버 레이저 가공 대비 열의 영향을 받는 면적 (Heat Affected Zone, HAZ)이 상당히 좁으며 이에 따른 Burr의 형성도 매우 적어 가공 정밀도가 매우 높음 2))1) 에서 언급된 펨토초 레이저 가공의 경우 집광된 레이저 빔의 이동 궤적에 따라 패턴이 형성 되기 때문에 집광된 레이저 빔 크기의 한계 (광학 회절한계)이하의 표면 패턴 제작이 불가능하지만, 펨토초 레이저 상호작용을 통한 표면 처리의 경우 펨토초 레이저 빔의 편광, 입사각, 레이 저 플루언스, 조사 횟수등 다양한 조건에 따라 자발적으로 형성되기 때문에 적절한 조건을 활 용하여 기존에 전통적인 방법 및 나노초 레이저 등과 같은 펄스폭이 긴 레이저 설비로는 가공 불가능한 광학 회절이하 패턴 형성이 가능하며 이를 활용한 표면의 복합기능 부여가 가능함 |
