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장비 및 시설 기본정보
중전류형 이온주입장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Varian |
| 모델명 | E220HP |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-08-18 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 반도체 실리콘 웨이퍼에 불순물을 주입하여 전류가 흐를 수 있는 도체적 성질을 얻고자 5KeV~200KeV 에너지 범위, 진공도 4× 10－6 Torr 이하의 조건에서 1×1011/㎠ ~ 1×1016/㎠ 이온을 주입하는 장비로서 미세소자제작에 필요한 기본적인 공정장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202002/20200210142637747.jpg |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-09-204761 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171127 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |