| 보유기관명 |
한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
B110 |
| 표준분류명 |
기타 |
| 시설장비 설명 |
특징 본 장비는 3차원적인 구조물에 pin-hole이 없으며 균일한 형태의 특수고분자를 코팅하기 위한 설비이다. 장비의 구성은 장입된 고체 상태의 다이 머를(para-xylylene) 기체 상태로 승화시키기 위한 승화부 기화된 다이머를 모노머로 분해시키기 위한 열분해부와 실제 코팅이 이루어지는 증착 챔버로(poly para-xylylene) 구성되어 있으며 증착되지 않은 원료물질이 rotary pump 쪽으로 직접 유입되어 pump에 damage를 주는 현상을 방지하 기 위해 -100℃이하로 유지되는 chiller를 사용하여 cold trapping 하도록 설게되어 있다. 또한 수분 및 산소에 민감한 모채를 코팅하기 위해 Rotary pump 이외에 Turbo molecular pump를 장착하여 초기 진공도를 3x10(-7) torr 이하로 Turbo molecular pump를 장착하여 초기 진공도를 carrier gas인 Ar He를 MFC를 통해 제어하며 반응성 gas로 O2 N2 및 H2를 독립적으로 사용한다. Substrate는 heating과 냉각이 가능하며 고온영 역으로는 600℃ 저온 영역으로는 -100℃까지 제어가 가능하다 구성및성능 - MEMS package - 반도체 층간 절연 barrier film - Dry lubricant - 인체삽입형 device 코팅막 - Chemical etching시 passivation막 - 기능성 고분자 막 형성 - 세라믹 또는 금속 표면의 표면 개질용 고분자막 - 기타 유기 용매에 용제되지 않으며 절연성질이 매우 우수하며 핀홀없은 코팅이 가능하기 때문에 활용 |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160922132255_200702071687 NFEC-2003-10-044509.jpg |
| 장비위치주소 |
한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2003-10-044509 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KIST_Fab-00011 |
| 첨부파일 |
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