| 보유기관명 |
한국과학기술연구원 마이크로나노팹센터 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C603 |
| 표준분류명 |
기타 |
| 시설장비 설명 |
특징 무기막 및 유기막의 Wafer를 Wet Etching 또는 Cleaning을 거친 후에 Wet 상태의 Wafer를 세척 및 건조시키는 장비임. VTI470S의 구동은 Microprocess에 제어 되어지며 RAM에 저장되어진 program은 Rinse step과 Dry step으로 나누어 조정이 가능함. Rinse step에서는 회전 중인 wafer 표면에 DI Water를 분사하여 wafer의 이송 중에 묻을 수 잇는 particle 들을 제거해주며 Dry step에서는 Motor에 의해 회전체인 Rotor가 고속호전을 하면서 wafer에 묻은 물기를 원심분리방식에 의해서 Wafer를 건조시킴. 이때 Hot Nitrogen을 wafer 표면에 분사시켜서 Wafer 표면에 있는 물기 및 Particle을 제거하며 건조하는 시간을 향상시켜 Throuput 향상의 기능을 가져옴. 구동은 Micorprocessor에 의해서 Rinse와 Dry를 한 Recipe 안에서 구동시킬 수 있도록 software 지원 체계를 갖고 있음. Brushless Motor와 LC 4 Controller Motor를 이용하여 Recipe를 Input/Output 시킬때 Touch Pad에 의해서 편리하게 입력시킬수 있도록 만들어져 있음. 회전체(Rotor)의 호전시 발생되어지는 정전기를 흡수 시 킬 수 있는 Static Eliminator와 세척후 Wafer의 세척 정도를 저항치 값을 이용한 Controller에 Display 될 수 있도록 Resistivity Probe도 장차 고디어져 있어서 Data의 정확도 향상 및 Operation 기능을 편리하게 하였음. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160922142212_200702071699 NFEC-2003-10-041541.jpg |
| 장비위치주소 |
한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2003-10-041541 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KIST_Fab-00010 |
| 첨부파일 |
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