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장비 및 시설 기본정보
고온X선광전자분광기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Ulvac |
| 모델명 | PHI 5000 VersaProbe II |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-12-12 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한밭대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B521 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | XPS는 시료의 표면에 특성 X-선을 입사하여 방출하는 광전자의 에너지를 측정함으로써 시료표면의 조성 및 화학적인 결합상태를 알 수 있다. 에너지원으로 X-선이 사용되어 절연체에 적용이 가능함으로 도체 및 반도체 절연박막의 분석에 큰 장점을 가지고 있다. 또한 이온빔으로 표면을 식각하여 깊이에 대한 분포도를 측정할 수 있다.Monochromatic X-ray dual source : Al & Mg Ultimate vacuum : 5x10-10 Torr Hemispherical energy analyzer (Resolution 0.5 eV) Temperature Range : -120K ～ 500K1) 금속 및 반도체순수 표면의 상 전이에 따른 전자 구조의 변화 2) 재배열 원자들의 전하분포 및 결합 에너지 변화 3) 기체 및 금속이 흡착된 반도체와 금속표면에서의 반응성 및 결합 상태에 따른 전자구조 4) 자성체 초 박막 및 에피 박막의 전자에너지 5) Submicro 이하의 국소 영역의 성분 분석 6) Depth profile을 통한 박막의 성장 메카니즘 규명 7) 표면의 원소에 대한 정량 분석 등 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201305/.thumb/20130515101013397.jpg |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 덕명동 한밭대학교 N8동 606호 한밭대학교 정보전자부품소재연구소 N8동 6층 606 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-05-178908 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0038155 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |