| 시설장비 설명 |
특징 박막의 성장과 thermal annealing(cycling) 중에 실시간으로 응력을 측정하는 장비. 이차원 박막의 응력 응력x 박막의 두께 기판의 곡률반경 표면의 반사율을 실시간 측정함. 기판을 수직으로 볼 수 있는 하나의 viewport 혹은 기판으로의 조사와 반사된 광빔을 측정할 수 있는 두 개의 viewport 모두 가능한 장치이지만 본 장치는 그 중 기판을 수직으로 보는 하나의 viewport를 사용하는 장치에 해당함. 따라서 지름 0.5인치 이상의 viewport에 광원이 고정되어야 하며 기판과 수평으로 장착된 성장 장치만 가능함. 박막성장 챔버의 viewport를 통해 2축 다중광속을 이용하여 기판의 곡률반경을 측정하고 박막 성장에 따른 응력의 변화를 측정함. 고정된 기판인 경우 정확도 : 1/R=1.0x10-4m-1 1500rpm 회전 시 정확도 : 1/R=1.0x10-3m-1지름 0.5인치 이상의 viewport가 기판과 수평으로 장착된 성장 장치만 가능함. MBE MOCVD 등 기타 진공 박막 증착 장비에서 활용 가능함. 스핀소자용 반도체 박막성장 |
