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장비 및 시설 기본정보
제타전위,입경 측정 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Otsuka Electronics |
| 모델명 | ELSZ-2000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-07-11 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B0 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | -본 장비는 여러 각도에서 동적광산란/전기영동광산란법을 이용하여 나노, 서브 마이크론 입자들의 입도 및 제타전위를 측정하는 장비이다. -나노 입자 및 촉매 전극 제조 분야의 경우 재료의 합성법에 따라 입자의 크기와 분산도가 다양하게 나타나므로 입자 크기와 제타전위의 측정이 필요하다. -측정 가능 샘플은 수용액이나 비수계 용매에 0.1ppm~40% 농도 범위로 분산된 샘플로, 고체상이나 필름, 섬유 재료 또한 제타전위 측정이 가능하다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201607/20160726182443510.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 연구동(L5) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-08-211096 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0061725 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |