| 시설장비 설명 |
본 장비는 건식 식각(Dry etching) 장비로서 주입되는 가스를 RF power를 이용하여 ion 전자로 분리, 식각 하고자 하는 물질을 원하는 만큼 식각하는 장비임. 건식식각 장비의 정밀도가 MEMS 소자제작에 미치는 영향을 조사하기 위한 연구 장비임. 실리콘 혹은 산화물과 화학적으로 반응하면서 플라즈마 기체의 물리적 식각을 동시에 이용하는 장비로서 식각율이 일정하면서도 많은 공정 조건을 선택하는 것이 가능하므로 본 연구의 목적에 적합함.본 장비는 건식 식각(Dry etching) 장비로서 주입되는 가스를 RF power를 이용하여 ion 전자로 분리, 식각 하고자 하는 물질을 원하는 만큼 식각하는 장비임. 건식식각 장비의 정밀도가 MEMS 소자제작에 미치는 영향을 조사하기 위한 연구 장비임. 실리콘 혹은 산화물과 화학적으로 반응하면서 플라즈마 기체의 물리적 식각을 동시에 이용하는 장비로서 식각율이 일정하면서도 많은 공정 조건을 선택하는 것이 가능하므로 본 연구의 목적에 적합함. |
