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열증발-스퍼터링 복합동시증착 장비

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보유기관명	한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C506
표준분류명	분석
시설장비 설명	특징 증기압이 높고 녹는점이 낮은 A-물질은 증발(evaporation) 증착법을 이용하 고, 녹는점이 매우 높은 B-물질은 스퍼터링(sputtering) 증착법을 이용하 며, 스퍼터링에 필요한 아르곤(Ar) 가스는 A-물질 증발을 위한 보트(boat) 내부를 거쳐서 증착기판을 향하여 분사되고, 이때 아르곤(Ar)의 가스 흐름양 은 챔버 내의 분압이 B-물질 스퍼터링(sputtering) 플라즈마를 형성하기에 적당한 분압을 이루도록 조절하고, 증착기판 근처의 국소적인 부분에 A-물 질 증기압을 높게 유지시킴으로서, 양질 in-situ AB 화합물 박막을 제조할 수 있음
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160825142556_20071227000000004712 NFEC-2007-12-049835.jpg
장비위치주소	한국전기연구원 초전도연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2007-12-049835
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053303
첨부파일

기업조회