코발트 기상 증착 장치
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Applied Materials |
모델명 | Endura-5500 |
장비사양 | |
취득일자 | 2006-01-01 |
취득금액 |
보유기관명 | 나노종합기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C506 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 고 에너지 입자가 고순도 타겟물질의 고체 판과 충돌하고 물리적으로 원자를 이동하여 기판에 증착시키는 방법으로 캐소드인 타겟의 뒷면에 전자석을 배열하여 자기장을 형성함으로써 금속타겟으로의 아르곤플라스 (Ar+) 이온의 충돌률을 증가시키고 플라즈마에서의 이온화률를 증가시켜 스퍼터링 효율을 높여 주는 방법임. 스퍼터링의 기본 6 단계를 살펴보면 첫째포지티브 아르곤 이온들이 고진공의 플라즈마 상태에서 생성되고 네가티브 전위의 타겟물질을 향해서 가속됨 둘째가속되는 동안 아르곤 이온들은 운동량을 얻어 타겟물질을 때리게 됨 셋째 타겟물질로 부터 물리적으로 원자를 이동시키게 됨 넷째 스퍼터링된 원자들은 기판 표면으로 이동하게 됨 다섯째 기판으로 이동된 원자들은 응축되어 각 성장단계에 따라서 타겟물질과 동일한 성분으로 기판표면에 박막을 구성하게됨 여섯째 부산물들은 진공펌프에 의해서 진공실로부터 제거되는 6단계의 과정을 거치게 됨 |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201101/20110126150510.gif |
장비위치주소 | 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-137093 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0024402 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |