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장비 및 시설 기본정보
고온열처리장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 싸이엔텍 |
| 모델명 | SCEN-AN-2S-1500 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-12-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | 기타 |
| 시설장비 설명 | - 1100℃/1500℃에서 시료의 열처리 및 신 물질 (Graphene과 같은 탄소물질 등) 합성을 위한 장비. - 공정 중 온도를 급격히 올릴 수 있으며 (1000℃/35min) Furnace의 이동이 가능하여 급격히 온도를 내릴 수 있는 장치. - 가스 량을 SCCM 단위로 조절이 가능하며 기체/액체/고체 소스 사용이 가능. - 진공 및 대기압 상태에서 탄소물질 합성이 가능. 진공을 유지하기 위해 leak test (1 x 10-10 mbar/sec)까지 이루어지며 진공측정을 위한 게이지와 대기압 실험을 위한 안정장치로 구성되어 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201504/20150413145643515.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 전북분원 연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-04-201323 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0055159 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |