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장비 및 시설 기본정보
엑시머 레이저
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Lightmachinery |
| 모델명 | IPEX-766 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-12-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C500 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | 엑시머 레이저(Excimer Laser)란 레이저 매질에 희가스 및 할로겐 등의 혼합 가스를 이용하는 자외선(UV) 레이저로, 대표적인 예로 ArF 엑시머 레이저(파장 193nm), KrF엑시머 레이저(파장 248nm), XeCl 엑시머 레이저(파장 308nm), XeF 엑시머 레이저(파장 351nm)가 있습니다. 에피 산화물 이종구조의 제조를 위한 Pulsed laser deposition 방법에서, 엑시머레이저는 산화물 타겟을 플라즈마 상태로 만들기 위한 핵심적인 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201701/20170131161033920.png |
| 장비위치주소 | E2 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-02-236050 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712191586 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |