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XeF2 에처

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명	ZEUS
장비번호
제작사	Advanced Communication Devices
모델명	XeF2 Etch System
장비사양
취득일자	2014-09-01
취득금액

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	기초과학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C510
표준분류명
시설장비 설명	에칭 메커니즘으로 absorb된 F2 가스의 dissociation은 표면의 원자와 반응하여 functional group을 형성한다. 이러한 방식으로 다양한 물질의 표면 특징을 분석 가능하다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150325174540198.jpg
장비위치주소	울산과학기술대학교 101동
NFEC 등록번호	NFEC-2015-03-200528
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054165
첨부파일

기업조회