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장비 및 시설 기본정보
집속이온빔장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Fei |
| 모델명 | Quanta 3D FEG |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-06-19 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국산업기술대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A200 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | ◈ 개요 ▸ 나노 단위의의 층이 적층된 구조의 시편에서 층의 두께 및 구조에 관한 신뢰성 있는 정보를 목적으로 시편의 극소부분을 밀링하여 촬영 및 분석을 하는 시스템 - 극소부위의 빠른 밀링 능력 - 고해상도의(전계방출)이온광학 - EDX를 사용하여 화학성분을 분석 가능◈ 주요규격 ▸ 전압 : 200V~30 Kv ▸ 빔전류: 200 nA ▸ 분해능 - 고-진공:1.2nm~30 kV[SE]/ 2.9nm~1kV[SE] - 저-진공:1.5nm~30 kV[SE]/ 2.9nm~3kV[SE] - 연장된 진공 방식[ESEM]:1.5nm~30kV[SE] ▸이온 광학 액체 갈륨 이온 방사체을 사용하여 광학 이온빔의 초점에 맞춘 방사 범위 - 광원 수명시간 : >1000hours - 전압 : 2kV~30kV - 빔 전류 : 1pA~65nA(15단계) - 분해능 : 7.0 nm - 일치점: 30kV - 최적의 가공 거리 : 5.0nm ▸ 이온 밀링 ▸ TEM 샘플 가공 ▸ EDS 체계 구성및성능 Quanta 3D FEG main body with FE-SEM and FIB column Controller and pumping system Pt deposition gas and Omniprobe sample lift out system Various detector ; SE BSE STEM CCD◈ 활용분야 - 전자부품 미생물 금속재료의 미세가공 및 분석 - TEM 샘플가공 - 나노 단위의의 층이 적층된 구조의 시편에서 층의 두께 및 구조에 관한 신뢰성 있는 정보를 목적으로 시편의 극소부분을 밀링하여 촬영 및 분석을 하는 시스템 - 극소부위의 빠른 밀링 능력 - 고해상도의(전계방출)이온광학 - EDX를 사용하여 화학성분을 분석 가능 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201001/.thumb/20100128195244.jpg |
| 장비위치주소 | 경기 시흥시 정왕1동 한국산업기술대학교 산기대학로 237 한국산업기술대학교 산학융합캠퍼스 1층 101 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-01-078328 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0017343 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |