| 기업공감원스톱서비스

스퍼터

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	나노종합기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C506
표준분류명
시설장비 설명	고 에너지 입자가 고순도 타겟물질의 고체 판과 충돌하고 물리적으로 원자를 이동하여 기판에 증착시키는 스퍼터링방법으로 일반적인 DC Magnetron 스퍼터링과 차이점은 캐소드인 타겟과 기판사이에 RF Coil을 장착하여 Plasma 밀도를 증가시키고 기판으로 증착되는 Metal Ion들의 직진성을 높이기위해서 기판에 RF Bias를 사용한다는 점을 들수 있다 - RF Etching - Etch Rate: > 350Å/min Etch Uniformity: 600A at 2.5kw Resistivity : 200A at 4kw Resistivity : 350A Bulk Resistivity : 15Å/Kw/sec Resistivity : 2.8~3.2μΩ-㎝ Reflectivity:>190 at 436nm (λ=365㎚REF=Al Mirror) - 180nm Logic 디바이스용 금속증착 등 - CMOS 일괄공정의 Barrier Metal 및 ARC공정 - Barrier Metal - Al Liner & ARC(Anti reflected coating) Layer
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201405/.thumb/20140512161815412.JPG
장비위치주소	대전 유성구 어은동 대전 유성구 대학로 291 (어은동 53-3) 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 1층 FAB
NFEC 등록번호	NFEC-2007-11-047758
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0016999
첨부파일

기업조회