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장비 및 시설 기본정보
도핑 확산로
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 리드엔지니어링 |
| 모델명 | LDF-8100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-07-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 결정질 실리콘 태양전지에 p형 혹은 n형의 에미터 층을 형성시키기 위한 장치이다. - pre-deposition과 drive-in 두 단계로 나눠서 도핑 공정이 진행됨. 각각 공정의 온도 시간 등을 변화시켜 면저항을 가변시킬 수 있음. - 단결정 다결정 실리콘 웨이퍼 사용 가능함. - |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120909180958.JPG |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 고층고실험동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2012-09-170042 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KIER-00022 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |