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보유기관명	전자부품연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	A400
표준분류명
시설장비 설명	1. 특징 본 연구 장비는 UV와 O2를 이용하여 기판의 표면에 있는 유기물을 제거하고 또한 표면 계질을 통하여 물질의 접착력을 향상시켜 소자의 효율을 증가시키기 위한 목적으로 사용되는 장비임. 주로 OLED PLED OPV OTFT 제작에 사용되는 기판의 전처리 공정으로 사용되며 다양한 소자 제작 공정에 사용 가능하다.2. 구성 및 성능 * Substrate Size : 370 X 470 mm * UV Lamp - Wavelength : 184.9nm 253.7nm - Intensity : 28mW / ㎠ - Life Time : Over 7000 Hours - Uniformity : ± 10%3. 주요 용도 공정진행을 위한 Glass 초기 세정 및 기판 표면개질 향상 반도체 및 디스플레이용 기판 제작을 위한 표면 유기물 제거 메탈 및 산화물 박막 증착전 기판 표면 전처리
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110119110753.JPG
장비위치주소	전북 전주시 덕진구 팔복동2가 820번지 전자부품연구원 나노기술집적센터 1층
NFEC 등록번호	NFEC-2009-10-075333
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014395
첨부파일

기업조회