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플라즈마가속화학기상 증착기

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보유기관명	연세대학교
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C507
표준분류명
시설장비 설명	품명/업체명 - PECVD System / (주)에스엔텍 고반응성의 플라즈마를 이용하여 화학적인 반응을 통한 박막을 합성하는 장비입니다. 본 연구실 위 장비를 이용하여 SiOx SixNy 등의 박막 합성에 관한 연구를 진행하고자 하며 본 연구에 있어 Uniform한 Gas 분포와 높은 Plasma 밀도는 우수한 박막을 합성하는데 있어 필수조건입니다.1. 반응성 가스 Uniform 분사 구조 2. 박막 측정 결과 값 : Thickness Uniformity ±3% 3. 최저 진공 : 1xE-6 Torr 4. Process 중 원하는 진공도에서 10m Torr 이내 유지(주)에스엔텍에서는 관련 분야에 있어 많은 납품 실적과 연구 성과를 가지고 있으며 특히 본 분야의 지적재산권(특허 제 10-0691618호 중성빔 발생장치를 갖춘 화학기상 증착)을 보유하는 등 기술력이 검증된 업체입니다.
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/20131008115849811.jpg
장비위치주소	인천 연수구 송도동 과학로 85 자유관B 3층 309호
NFEC 등록번호	NFEC-2012-09-170132
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0034892
첨부파일

기업조회