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적외선 램프 가열 장치

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보유기관명	한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C601
표준분류명	기타
시설장비 설명	-고속 가열·냉각이 가능하여 반응 온도까지 도달하는 과정에서 시료의 변형을 최소화 할 수 있음. -가열로 오염의 원인이 되는 단열재를 일체 사용치 않아 오염에 민감한 나노 물질 관련 실험에 적합 함. -IR 복사에 의한 가열 원리로 시료 내부까지 열 전달이 가능하여 시료 전반에 걸친 균일한 온도 상태를 유지할 수 있음. -고속 승온이 가능해 그래핀과 같은 탄소소재의 효과적인 열적 환원 반응에 적합함. -열처리 영역이 커질수록 열전달 효율이 감소하여 가열에 따른 승온 속도가 낮아짐. 좁은 열처리 영역은 보다 빠른 가열이 가능하나 1회 처리 가능한 시료의 양이 제한적임. 적외선 램프 가열 장치의 열처리 영역은 약 40Φ * 80L mm로 비교적 넓기 때문에 다량의 탄소를 비롯한 기타 소재의 균일한고속 열처리에 적합 함.
장비이미지코드	https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201406/2014060310639809.jpg
장비위치주소	한국과학기술연구원 전북분원 연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2014-06-188957
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0042916
첨부파일

기업조회