감광제 도포기
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 씨엔디플러스 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2016-07-18 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국전기연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C502 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | ○ 감광제 도포기는 전력반도체 소자의 제작에 있어서 필수적인 사진공정(photo-lithography)을 위하여 감광제(PR; Photoresist)를 균일하고 재현성 있게 도포 가열 현상하는데 사용하는 장비임. - 100A급 소자에서 1000000개 이상의 균일한 unit cell 패턴이 필요(전체 면적>0.5㎠). - 미세패턴의 구현을 위해 PR track을 이용한 가장자리의 PR 잔류물 제거 (EBR; Edge Bid Removing)가 필수적이며 본 장비는 EBR 기능을 포함하고 있음. - PR 도포용 척의 회전속도 Hot-plate에서의 가열온도 현상의 시간의 균일성 확보 가능 - 고전압 대전류 소자는 외부의 오염물에 의한 영향에 매우 민감하므로 오염물이 제한된 공간에서의 PR 도포 및 현상이 가능함. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201609/20160920163515630.bmp |
장비위치주소 | 한국전기연구원 전력반도체연구동 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2016-09-211920 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0062139 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |