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장비 및 시설 기본정보

감광제 도포기

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 씨엔디플러스
모델명 모델명 없음
장비사양
취득일자 2016-07-18
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 한국전기연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C502
표준분류명
시설장비 설명 ○ 감광제 도포기는 전력반도체 소자의 제작에 있어서 필수적인 사진공정(photo-lithography)을 위하여 감광제(PR; Photoresist)를 균일하고 재현성 있게 도포 가열 현상하는데 사용하는 장비임. - 100A급 소자에서 1000000개 이상의 균일한 unit cell 패턴이 필요(전체 면적>0.5㎠). - 미세패턴의 구현을 위해 PR track을 이용한 가장자리의 PR 잔류물 제거 (EBR; Edge Bid Removing)가 필수적이며 본 장비는 EBR 기능을 포함하고 있음. - PR 도포용 척의 회전속도 Hot-plate에서의 가열온도 현상의 시간의 균일성 확보 가능 - 고전압 대전류 소자는 외부의 오염물에 의한 영향에 매우 민감하므로 오염물이 제한된 공간에서의 PR 도포 및 현상이 가능함.
장비이미지코드 http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201609/20160920163515630.bmp
장비위치주소 한국전기연구원 전력반도체연구동
NFEC 등록번호 NFEC-2016-09-211920
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0062139
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)