| 시설장비 설명 |
본 장비는 신기능 자성박막 자성박막 연구를 위한 자성박막 및 3원계 이상의 합금박막을 증착하기 위한 장비이다. 특히 본 장비는 자성박막의 증착에 특화된 장비로 Gun 아래에 놓여있는 magnetic이 특수 제작되어 자성타겟의 두께가 3mm이상의 영역에서도 플라즈마를 띄어 박막을 증착 할 수 있다. 또한 두께의 유니포미티가 우수하며 얇은 박막의 특성을 일정하게 유지 할 수 있는 장점이 있다. 그리고 Gun이 7게가 장착이 되여 다양한 alloy 박막을 증착할 수 있는 장점이 있어서 여러 분야에 응용이 가능할 것이라 생각되며 특히 로드락 챔버가 연결되어 있어 실험진행 속도를 빠르게 진행할 수 있다. 본 장비의 구성및성능은 다음과 같은데 우선 7 sputtering gun 이며 Depostiion uniformity : Better than 2.5% over a 4in Wafer 이다. 또한 Base vacuum : Better than 2.0 x 10⌒7Torr 로써 고품위 박막 증착이 가능하다. 본 장비의 활용분야는 자성박막 및 3원계 이상의 합금박막 증착이다. |
