- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
전자빔증착기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2002-01-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 높은 진공 상태의 안정한 조건 속에서 금속 덩어리를 전자빔으로 녹여서 소자 전면부에 분사시키는 증착 방법을 이용하는 장비이다. 진공 효율의 증가로 인해 진공 형성 시간의 단축과 진공도의 향상이 가능하고 주어진 시간 내에 많은 양의 균일한 소자 공정이 가능하다. 또한 상대적으로 저온 환경에서 증착이 가능하므로 열 공정으로 유연하거나, 감을 수 있거나,늘어지는(Flexible, Rollable, Stretchable) 소자들로도 구현할 수 있게되어 일 효율성과 고급 단계의 나노구조물 소자 연구에도 기여할 수 있다.Chamber 진공 - 기본 진공도 : 5×10-7torr - 크라이요 펌프, 로터리 펌프 ㅇE-Beam source / power : Dual co-evaporator / 2 ～ 10kW ㅇ박막 두께 균일성 : ±2% 이하 ㅇ크리스탈 센서 : Dual port Dual input Dual sensor 6 head배선용 금속박막 증착, 금속 및 산화물 극초박막 증착, 다성분계 Alloy 박막 증착. 본 장비를 이용한 박막증착을 통해 활용가능한 응용분야는 아래와 같다. - 전기적 응용 : 반도체집적회로, 태양전지, 박막 트랜지스터, 박막저항기 - 광학적 응용 : 발광 다이오드, 박막코팅, 광 스위치 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201501/.thumb/20150106171552260.jpg |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 구성동 한국과학기술원 W1-1 신소재공학과 한국과학기술원 응용공학동(W1-1) 1층 1302 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-01-195474 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0047839 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |