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장비 및 시설 기본정보
오제전자분광기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Ulvac-phi |
| 모델명 | PHI 700 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-12-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 충북대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B500 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 오제이전자분광기는 시료표면에 특성 전자빔(3～25eV)을 입사하고, 이때 방출하는 Auger 전자를 측정함으로써 시료표면의 조성 및 화학적인 결합상태를 알 수 있다. 에너지원으로 electron이 사용되어 도체 및 반도체에 적용이 가능함으로 도체 및 반도체 박막의 분석에 큰 장점을 가지고 있으며, electron beam의 크기가 조절 가능하므로 국소영역의 분석도 가능하다. 또한 이온빔으로 표면을 식각하여 깊이에 따른 분포도를 측정할 수 있다.- Geometry analyzer type : coaxial full CMA - Min. Auger spatial resolution : 8 nm@1nA, 20 keV. - Min. SEM beam size : 7 nm@1nA, 20 kV - Min. SEM dark space resolution : 1nA 6 nm@1nA, 20 kV - Sputter ion source : 0.1 ～ 5 keV - Translation : X, Y, X, Tilt and Zalar Rotationㅇ Semiconductor devices : shorting problems, contact contamination, cleaning residue ㅇ Magnetic storage media : surface particles, interdiffusion of layers ㅇ Display devices : defect particles, cleaning residue ㅇ Glass and ceramics : grain boundary, segregation, cleaning failures, precipitates ㅇ Depth profile을 통한 박막의 성장 메카니즘 규명 ㅇ 표면 원소에 대한 정량 분석 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201410/batch/.thumb/070130400042706279.JPG |
| 장비위치주소 | 충북 청주시 흥덕구 개신동 12 충북대학교 1층 125 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-11-193028 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0046074 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |