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장비 및 시설 기본정보
화학 기상 증착 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Applied Materials |
| 모델명 | P-5000 Mark 2 200mm |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-03-09 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1. 히팅 방법: 램프 히팅 타입 2. RF Generator: 1250w 3. Heating Temp : Max 400℃ 4. Available Size : Piece ~ 8 Inch 5. Uniformity : within 5%1. Wafer Type : 4 ~ 8" Flat & Notch Wafer 2. System Configuration - loadlock - Load / Transfer robot - Srorage eleavator - Process Chamber 3. 온도 250 ~ 400℃ 컨트롤 가능 4. 웨이퍼 수량 최대 50장 자동 로딩 및 언로딩 5. Deposition Rate: 6000A'/min 이상1. oxide : 배선간 절연 passivation 2. nitirde : passivation - 반도체 디바이스의 표면이나 접합부에 적당한 처리를 하고 유해한 환경을 차단하여 디바이스 특성의 안정화 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201305/.thumb/20130507182337823.png |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 어은동 대전 유성구 대학로 291 (어은동 53-3) 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 1층 FAB |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-05-178710 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0040438 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |