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장비 및 시설 기본정보
스핀디벨로퍼
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 신도기연 |
| 모델명 | SDSP-KH01 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-07-25 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 경희대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C300 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | * Spray Nozzle: IKEUCHI 1/4MVP9010 PVDF * Spray Pressure: Max 0.08MPa * Filter: 현상액용 5.0um (제거율99.99%) * 현상액 Tank용량: 단독순환 Tank 30L* Work Size: 6" X 6" * 방 식: 현상액(Develop)Spray 처리방식 * Work 고정방식: 진공흡착방식 * 건조 Air Knife Module 설치: Slit식 Air Knife로 건조 * 순환 Pump: Magnetic형 Seal less PumpGlass 기판 혹은 silicon wafer 등의 thin film 위에 코팅/노광된 photo resist를 spray-puddle 방식으로 현상액을 이용하여 UV와 반응한 노광영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하고 rinse하는 장비이다 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201308/.thumb/20130808112844325.JPG |
| 장비위치주소 | 경기도 용인시 기흥구 덕영대로 1732 (서천동) 멀티미디어관 B1 경희대학교 산학협력단 멀티미디어관 지하1층 105 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-128860 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0020219 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |