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장비 및 시설 기본정보
실리콘박막태양전지제작용 다실진공증착시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-07-08 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C503 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | 실리콘 박막은 SiH4와 H2의 혼합 가스를 주입하고 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 방법으로 증착하게 되며 여러 주변 성막 조건이 고정된 하에서 H2 가스 분량 이 총 가스에서 차지하는 양에 따라 크게 3종류의 박막이 증착될 수 있다. 여기서 아몰포스 상(Phase)은 전혀 결정을 포함하고 있지 않은 상태이며 원자들의 배열이 비방향성 결합 구조(random network)를 형성하고 있다 마이크로 결정(Micro)은 아몰포스와 결정상 모두가 구조 내에 존재하나 그 기본 형상의 크기가 20 nm 가량이 된다. 반면 폴리 결정(Poly)은 결정만으로 구성되어 있고 아몰포스 상은 포함되지 않은 구조를 가지고 있으며 그 기본 형상의 크기가 20 nm 이상인 것을 특징으로 한다. 연구자에 따라서는 아몰포스 상과 마이크로 결정상의 경계에 프로토(Proto) 상이 존재한다고 얘기하는 데 이 상은 TEM(Tunneling Electron Microscopy) 분석으로 보면 소수 원자들의 결정들이 상호간에 비방향성 결정구조를 보여주면서 우수한 태양전지 특성을 갖는 상을 말한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160822172234_20111014000000116347 NFEC-2011-10-149558.jpg |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-10-149558 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-202006045324 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |