| 시설장비 설명 |
○ SCR 촉매의 원천기술에 있어 플라즈마 응용기술은 기존의 합성기술에 비해 고품위, 고기능성의 물질을 생성시킬 수 있어 제품의 성능을 획기적으로 향상시킬 수 있는 기술로서 추후 필요 원소를 활용한 촉매물질의 지속적 개발을 위함 ○ 도입장비는 직경 500mm에 높이 600mm의 챔버 내에 플라즈마 발생을 위한 전원소스가 위치하고 있으며 장착되는 다양한 소스를 활용하여 가스, 고체상의 금속이온 및 반응가스이온을 활용한 촉매의 합성 및 표면개질이 가능함 ○ 3D형상의 제품 처리 가능 - 도입장비는 진공분위기에서 처리됨에 따라 촉매물질에 오염물의 흡착을 방지하고 합성 제어가 쉬운 장점이 있으며 챔버 상단에 ICP(Inductively Coupled Plasma), ECR(Electron Cyclotron Resonance) 등의 플라즈마 보조발생장치를 부착하여 챔버내 주입되는 반응가스 및 발생이온의 반응성을 극대화 시킬 수 있음 - 설치된 플라즈마 보조발생장치는 3D 복잡형상 제품뿐만 아니라 파이프 형태 제품의 내부 처리가 가능하여 제품의 외부, 내부의 균일한 처리가 가능함 - 세라믹 소재로 구성된 촉매의 제품 처리 시, 부도체인 산화물의 표면에 전하의 집중으로 인한 아크발생으로 제품표면의 손상이 발생하는 문제점을 가지고 있으나 본 도입장비는 아크제어를 위한 스크린 및 바이어스 소스를 이용하여 발생되는 이온을 신속히 제거함으로서 표면손상을 최소화 할 수 있음 |
