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장비 및 시설 기본정보
비접촉식 면저항 매핑시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Napson Corporation |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-04-05 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | D200 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - NC-80NAP 장비는 GaAs, GaN wafers 및 SiC등 웨이퍼 스케일의 면저항을 비접촉 방식으로 측정함 - 또한 metal layers 또는 silicon wafer의 전기 비저항을 측정할 수 있음- 시료 내부에 자기장 변화를 유도하고, 그때 발생하는 Eddy current를 이용하여 시료를 분석함 - 접촉 방식에 의한 표면 손상을 방지할 수 있음 - 2~8 in 크기의 시표를 실시간으로 분석 가능함- wafer 영역에 따른 전기적 특성을 계측할 수 있음 - CRN-10 옵션을 부착하여 시료의 두께를 분석할 수 있음 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201605/2016050415022354.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 청정연구동(L6) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-05-209503 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0060049 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |