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장비 및 시설 기본정보

증착 시스템

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 에스엔텍
모델명 REP-5004 series
장비사양
취득일자 2010-10-11
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 광주과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드 C504
표준분류명
시설장비 설명 특징
퍼터링 타겟에 Au 또는 니켈 등의 금속 물질을 증착시킬 때 사용되는 필수 장비
특징
1. Evaporating System : 1 Sys.
1.1 Main Processing Chamber
▶ Material : Stainless Steel & Aluminum
▶ Internal Shape : Circular
▶ Internal Dimension : About 450㎜ Dia. 520㎜(H)
▶ Chamber Wall Cooling
▶ Front Door Type Shape
▶ Inner shield cover
▶ Various functional port (ex : gauge vent pumping view port etc)
- View Port
- Gauge Port Vent Port
1.2 Vacuum Pumping Unit
▶ High Vacuum Pump : 1Ea
- Turbo Molecular Pump with Power Supply
- Brand : OSAKA in Japan
- Magnetic Suspension Type
- Pumping Speed : 1100 L/Sec
▶ Oil Free Dry Pump : 1Ea
- Pumping Speed : 27M3/Hour
- Brand : Alcatel in France
1.3 E-Beam Source with Power Supply : 1 Set
1.3.1 Electron Beam Source
▶ Electron Gun
- 4 Pocket of 7cc Crucible
- Source 270。Deflection
- Central Feed through for Crucible Drive and Water Cooling
▶ Electron Gun Power Supply with X-Y Sweep
- Input Power : 220VAC /3Ø 60 Hz 40A
- Maximum Power : 6 KW
- Electro-Pneumatic Drive for Shutter
- High Voltage Power Electrical Feed through
- Crucible Indexers with Motor Assembly
1.4 Substrate Rotation & Z-Motion
▶ Stage Dimension : 4 inch Size
▶ Sample Rotation using Ferro Sealed rotary motion
- RPM : 5~20
▶ Sample Susceptor : SUS or ETC
▶ Z-motion Unit
- Super Bellow /Stroke : ±50 mm
- LM Guide & Ball Screw / DC 90V Motor with Controller
- Position Sensor for Sample Loading/Unloading & T/S Distance Adjust
1.5 Vacuum Gauge & Thickness Monitor
1.5.1VacuumGauge
▶ Touch Panel (PLC) display the chamber & pumping line in real time
▶ Pirani & Cold cathode gauge
-Pressure range : 760 Torr ~ 10-9Torr
▶ ATM Sensor
1.5.2 Multi Film Rate & Thickness Controller : 1 Set
▶ Thickness Display Auto Ranging : 0.00 to 999.9 KÅ
▶ Rate Display Auto Ranging : 0.0 to 999 Å/sec
▶ Automatically Adjustable Interface of Thickness Rate
▶ Crystal Sensor Packaging
- Sensor Head & Oscillator 구성및성능
메인 프로세싱 챔버
배큠 로드록 시스템
소프트웨어 앤 유틸리티
▶ Water & Air Distribution unit
- Water (PCW) & Air (CDA) Flow indicator
▶ 19" Control rack inside / Mobile with transport rollers활용분야
Graphene device용 metal 전극 증착
Graphene 형성을 위한 metal template 증착
▶ Housing all the electronic sub system control units pneumatics water gas services and turbo Molecular pumps. Etc
▶ Fully interlock system for protecting hardware from any service failure and the operator from electrical shock during maintenance
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/2013100811636677.jpg
장비위치주소 광주 북구 오룡동 광주과학기술원 1 광주과학기술원 신소재공학동 2층 207
NFEC 등록번호 NFEC-2010-10-085711
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0018385
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)