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장비 및 시설 기본정보
대면적 스퍼터링 진공시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 지우기술 |
| 모델명 | W1800*D900*H320 square type chamber |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-12-08 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 1. CIGS 박막 태양전지의 금속 후면전극의 증착 2. 대면적 증착 시스템을 이용하여 동일한 크기의 기판을 동시에 30장 이상 제조할수 있다. 3. 대면적 모듈 제조에 필요한 금속 전극 제작 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201108/20110823132220.jpg |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 제4연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-04-019892 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0047936 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |