미세형상측정 Microscope System / Ion Coater
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 펨트론 |
모델명 | 모델명 없음 |
장비사양 | |
취득일자 | 2009-07-22 |
취득금액 |
보유기관명 | 한국생산기술연구원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C506 |
표준분류명 | 시험 |
시설장비 설명 | ㅇ 원리 및 특징 - 필라멘트를 이용한 전자주사방식 / Ion Sputtering 방식 ㅇ 구성 및 성능 1. 주기기 주사전자현미경 (SEM)- (1) 기본 요구 사양 - Resolution : 3.5nm - Magnification : 10x ~ 100,000x - Accelerating voltage : 0.5kV ~ 30kV -Ion Coater- (1) 기본 요구 사양 - Sputtering system : Top Electrode discharge system - Target : 57mm dia. Au disk - Vacuum chamber : 120mm dia. x 110mm H 2. 보조기기 주사전자현미경 (SEM) - (1) 세부 요구 사양 - 본 과제에서 개발하고자 하는 연속성형 공정기술을 통해 성형된 패턴 형상으로부터 최대 300㎛ 이하의 측정이 가능할 것. - Ion Coater - (1) 세부 요구 사양 - SEM 측정하고자 하는 시료에 대해 균일하게 박막 골드 코팅이 가능할 것. ㅇ 사용예 및 활용분야 - 성형전후 substrate의 미세형상 측정 / 비금속류의 SEM 측정을 위해 샘플을 전도성으로 만들어주기 위한 ion coating |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160901110121_20090819000000044977 NFEC-2009-08-150433.jpg |
장비위치주소 | 한국생산기술연구원 A동 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2009-08-150433 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech-00044 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |